Flüssiger Cyclohexan Cas 110-82-7 als Fototooresist -Lösungsmittel

Produktbeschreibung

Was ist Cyclohexan?

Cyclohexan ist ein farbloses, flüchtiges organisches Lösungsmittel mit geringer Oberflächenspannung und hoher Löslichkeit. Seine CAS -Nummer lautet {{0}}, EINECS -Nummer ist 203-806-2, die chemische Formel ist C₆h₁₂, Molekulargewicht beträgt 84,16. Die Dichte beträgt 0,77, der Schmelzpunkt ist 6,5 Grad, der Siedepunkt 81 Grad. Flash Point ist -18 Grad, fast unlöslich in Wasser, Dampfdruck bei 37,7 Grad beträgt 168,8 mmHg, die Dampfdichte im Vergleich zur Luft beträgt 2,9.

Grundinformationen

Verwendung

Cyclohexan hat die folgenden Vorteile als Photoresist -Lösungsmittel:

• Gute Löslichkeit: Es verfügt über eine gute Löslichkeit für verschiedene Komponenten wie Harze und Photosensibilisatoren bei Photoresistern und kann diese Komponenten in der Lösung gleichmäßig verteilt, um ein stabiles und einheitliches Photoresist -System zu bilden, das der anschließenden Bildung eines gleichmäßigen Widerstandsfilms auf dem Unterstrat fördert.
• Niedriger Siedepunkt und Volatilität: Der Siedepunkt beträgt etwa 81 Grad, was relativ niedrig ist. Nachdem der Photoresist beschichtet ist, kann er schnell verdampfen, so dass der Widerstandsfilm schnell getrocknet werden kann, wodurch die Verarbeitungszeit verkürzt und die Produktionseffizienz verbessert wird. Darüber hinaus wird während des Photolithographieprozesses die Genauigkeit der photochemischen Reaktion und des Mustertransfers nicht durch Lösungsmittelreste beeinflusst.
• Hohe chemische Stabilität: Es hat eine hohe chemische Stabilität, kann chemisch mit den Komponenten des Photoresists chemisch reagieren und unter den Licht-, Entwicklung-, Entwicklung usw. während des Photolithographieprozesses nicht einfach zu zersetzen oder zu verschlechtern. Es kann die Stabilität der Leistung des Photoresists gewährleisten und die Qualität und Genauigkeit des Photolithographiemusters gewährleisten.
• Niedrige Oberflächenspannung: Cyclohexan hat eine niedrige Oberflächenspannung, die es der Photoresist -Lösung auf der Substratoberfläche während des Beschichtens besser ausbreiten kann, wobei ein gleichmäßiger und flacher Widerstandsfilm bildet, der vorteilhaft ist, um die Auflösung der Photolithographie zu verbessern und Musterdefekte zu reduzieren, die durch eine ungleiche Filmdicke oder eine ungerövige Oberfläche verursacht werden.
• Kosteneffizienz: Es ist ein relativ häufiges und kostengünstiges organisches Lösungsmittel mit einer Vielzahl von Quellen. Wenn Sie mit Massenproduzenten von Photoresistern die Verwendung von Cyclohexan als Lösungsmittel verwenden, können die Produktionskosten gesenkt und eine gute wirtschaftliche Praktikabilität aufweist.

Sicherheitsinformationen

Halten Sie sich von Zündquellen fern.
Vermeiden Sie den Kontakt mit den Augen.
Treffen Sie Vorsichtsmaßnahmen, um die Erzeugung statischer Elektrizität zu verhindern.
Entsorgen Sie dieses Material und seinen Behälter als gefährliche Abfall.
Vermeiden Sie die Freilassung in die Umgebung. Siehe spezielle Anweisungen/Sicherheitsdatenblätter.
Wenn geschluckt, induzieren Sie kein Erbrechen; Suchen Sie sofort medizinische Beratung und zeigen Sie Container oder Etikett.
Behalten Sie den Behälter an einem gut belüfteten Ort auf.

Unternehmensprofil

GNEEBIOist ein Unternehmen, das sich auf die Forschung, Entwicklung, Produktion und den Verkauf von Phytochemikalien und Feinschemikern spezialisiert hat. Die Fabrik wurde 2016 gegründet und befindet sich in der Provinz Henan, die eine Fläche von 3.600 Quadratmetern abdeckt. Wir haben ein professionelles, gut ausgestattetes und qualitativ hochwertiges F & E-Team mit mehr als 10 Jahren F & E-Erfahrung. UnserReagensDie Produkte werden weithin in viele Länder exportiert, darunter die USA, Russland, Kanada, Australien, Europa usw., und wir bieten unseren Kunden schnelle Versanddienstleistungen an. Wir hoffen, dass wir in Zukunft eine langfristige und für beide Seiten vorteilhafte Zusammenarbeit mit mehr Freunden erstellen und die besten Produkte und Dienstleistungen für unsere Kunden anbieten können.

Unsere beliebten Produkte umfassen organische Chemikalien:CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 Phenyliodosohydroxy -Tosylat, Katalysator:Cas 110-02-1 Thiophenunter anderem.

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Häufig gestellte Fragen